产品与服务 - FA EDA
FA EDA是网页版麻将在线玩开发的基于BS构架的数据分析系统(EDA),其可以对生产过程产生的多种数据进行采集和分析,以帮助用户能够发现生产中的问题,更好控制和提高产品质量。
FA EDA支持多种数据输入方式,包括各种测试文件的自动读取、EAP方式直接从设备获取等。
FA EDA目前主要定位在PCM和CP数据的自动采集和分析上,今后会支持更多种类的数据分析。
FA EDA主要模块
FA EDA主要模块有:
- 数据自动采集模块
- PCM与CP数据实时监控模块
- SPC离线分析
- PCM数据分析
- Bin/Defect Map缺陷分析
- Yeild良率分析
- 系统设置及权限控制模块
数据自动采集模块
该模块实现自动读取测试数据文件,生成规范化数据后存储到数据库中,并对数据文件进行归档管理。
PCM与CP数据实时监控模块
该模块实时监控“数据自动采集模块”导入的数据,并根据设置的监控项目,实时发现有异常的数据并报警,按设置可执行Hold批次或Hold设备等动作。
该模块的主要功能有:
- 监控项目(Job)设定功能
- 数据监控功能
SPC离线分析
该模块针对选定的Job,使用图形化控件在坐标中显示所收集到数据的XBar、MR、R等Chart的值,选中点后可以看到原始数据及相关的采集信息,能够在图形上显示控制线。
支持多种管制图对工艺参数进行离线统计分析(XBar-Sigma/XBar-Range/Moving Range/P/Pn/Count等)。对于选定的Chart Point,可以计算出Max、Min、Cp、Cpk、Std Dev、Ca等参数。
支持图形转换功能,同样的数据可在Control Chart、Histogram、Normal Prob等之间切换显示,支持根据原始数据进行数据分布显示(Histogram Chart/BoxPlot/Probability Chart/Normalize Line等)。
PCM数据分析
该模块提供对PCM测试的数据分析功能,主要功能有:
- PCM数据查询分析
提供基于天、周、月、自定义时间段,以及产品、工艺路线、工段、工序、PCM参数等条件进行查询分析,支持按单片Wafer和多片Wafer/Lot查询分析,支持根据PCM参数测试结果生成PCM Map,支持PCM参数原始数据及按条件汇总导出至Excel。 - PCM参数失效分析
对按查询条件查询得到的数据进行分析,支持按单片Wafer和多片Wafer/Lot查询分析,支持根据PCM各测试参数值生成SPC管制图进行分析。 - PCM参数相关性分析
支持PCM参数间或PCM参数与良率之间的相关性分析,支持PCM参数与工艺过程参数之间的相关性分析,支持通过散布图分析PCM参数间的相关性。
Bin/Defect Map缺陷分析
Bin/Defect Map缺陷分析主要用于CP中测数据的Bin与缺陷分析,系统支持按Lot和按Wafer进行分析。支持基于时间范围、产品、工艺路线、工段、工序、检查设备等条件对Bin和Defect数据进行查询和分析。
可按Wafer单片/多片/Lot显示Bin/Defect Map,支持在Defect Map上显示Defect的实际尺寸大小,支持Defect实际图片与Map上的Defect点链接,支持Bin/Defect原始数据的汇总与多条件查询导出Excel。
提供Bin与Defect Map的叠加显示分析,并提供多条件查询功能,支持Wafer Mapping图的放大、缩小、旋转、复制等功能。
Yeild良率分析
该模块支持基于天、周、月、自定义时间段,以及支持基于工厂、产品、工艺路线、工段、工序、检查设备等条件进行数据查询和分析。
支持选择所要分析的Lot/Wafer,支持根据所选Lot/Wafer统计良率汇总报表,支持按时间周期显示在制品的良率趋势图表。
系统设置及权限控制模块
该模块为系统提供基本设置的功能,主要功能有:
- 监控参数设置,设置需要监控的参数
- 产品信息设置
- 用户和用户组设置
- 用户权限设置
- 系统的可维护性,数据,清理,迁移和整理机制
软件架构
FA EDA使用了微软的.Net构架,可以部署在任何运行Windows的服务器上,支持Windows Server 2003~2012。
在开发技术上使用了微软的ClickOnce技术和B/S技术,用户可以通过浏览器对系统进行访问。
数据库则使用Oracle作为系统的数据库引擎。
硬件架构
FA EDA应用服务器数量可以视业务量随时增加和缩减,并可实现负载平衡。
支持微软的NLB,可实现EDA应用服务器的负载平衡。
数据库方面,FA EDA支持Oracle RAC技术,可实现高并发量的业务处理。